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簡要描述：【無錫冠亞】緊湊型循環(huán)冷卻加熱器 程序控溫加熱制冷機(jī)，應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號：SUNDI-235廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-01-16訪 問 量：925| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 10萬-20萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合 |
無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于：
高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
反應(yīng)釜配套制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)用：
反應(yīng)釜配套制冷加熱控溫系統(tǒng)?泛應(yīng)用于?油、化?、橡膠、染料、醫(yī)藥、?品等?產(chǎn)型用戶和各種科研實驗項?的研究用來完成?藝過程的容器。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)控溫時溫度穩(wěn)定、升降溫速率快、可連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行、實時記錄反應(yīng)過程溫度。
微通道反應(yīng)器配套制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)用：
微通道反應(yīng)器配套制冷加熱控溫系統(tǒng)可執(zhí)行不同類型的反應(yīng)，可用于微反應(yīng)丁藝開發(fā)及精細(xì)化學(xué)品合成。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)寬溫度范圍，?精度智能溫控，單流體控溫，無需更導(dǎo)熱介質(zhì)穩(wěn)定?產(chǎn)。
新能源汽車制冷加熱測試系統(tǒng)應(yīng)用：
新能源汽?行業(yè)，制冷加熱控溫系統(tǒng)主要應(yīng)用在測試、檢測臺架和材料測試等環(huán)節(jié)。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)可同時對多個樣品進(jìn)行溫度控制，控制系統(tǒng)可記錄與導(dǎo)出測試過程中的溫度數(shù)據(jù)，可滿??部分元件在特定的溫度變化條件下測試。
半導(dǎo)體行業(yè)制冷加熱測試系統(tǒng)應(yīng)用：
制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)用于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供準(zhǔn)確且快速的環(huán)境溫度。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)是對產(chǎn)品電性能測試、失效分析、可靠性評估的儀器設(shè)備。
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質(zhì)溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認(rèn)PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度（外接溫度傳感器）三點(diǎn)溫度 | ||||||||||||
導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應(yīng)物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機(jī) | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī) | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護(hù) | 具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過載保護(hù)；高壓壓力開關(guān)，過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運(yùn)行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風(fēng)）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風(fēng)) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規(guī)重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風(fēng)冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
緊湊型循環(huán)冷卻加熱器 程序控溫加熱制冷機(jī)
緊湊型循環(huán)冷卻加熱器 程序控溫加熱制冷機(jī)
隨著科技的不斷發(fā)展，緊湊型循環(huán)冷卻加熱器在分析儀器配套中的應(yīng)用越來越廣泛，緊湊型循環(huán)冷卻加熱器能夠提供準(zhǔn)確的溫度控制，為各種分析儀器提供穩(wěn)定的環(huán)境，從而確保實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。
一、什么是緊湊型循環(huán)冷卻加熱器？
緊湊型循環(huán)冷卻加熱器是一種能夠提供準(zhǔn)確溫度控制的設(shè)備，其主要功能是將環(huán)境溫度降低到所需的低溫，并保持恒定。
緊湊型循環(huán)冷卻加熱器能夠適應(yīng)從深冷到高溫的不同需求，滿足各種分析儀器的溫度控制要求。緊湊型循環(huán)冷卻加熱器設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，維護(hù)方便，溫度控制精度高，能夠滿足大多數(shù)實驗要求。
