高溫直降加熱制冷設備應用于玻璃反應釜

簡要描述：化工制藥反應制冷加熱控溫系統TCU高溫直降加熱制冷設備應用于玻璃反應釜

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廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-01-04
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詳情介紹

品牌	LNEYA/無錫冠亞	應用領域	電子/電池

制冷加熱控溫系統的典型應用：高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

高溫直降加熱制冷設備應用于玻璃反應釜

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低溫冷凍機詳情頁_13

型號		SUNDI- 925W	SUNDI- 935W	SUNDI- 955W	SUNDI- 975W	SUNDI- 9A10W	SUNDI- 9A15W	SUNDI- 9A25W	SUNDI- 9A38W	SUNDI- 9A60W	SUNDI- 9A80W
介質溫度范圍		-90℃～+250℃（加壓3bar)
控制系統		前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器
溫控模式選擇		物料溫度控制與設備出口溫度控制模式可自由選擇
溫差控制		設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯		可編制10條程序，每條程序可編制42段步驟
通信協議		MODBUS RTU 協議 RS 485接口
外接入溫度反饋		PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)
溫度反饋		設備導熱介質溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度
導熱介質溫控精度		±0.5℃								±1℃
反應物料溫控精度		±1℃
加熱功率 kW		2.5	3.5	5.5	7.5	10	15	25	38	60	80
制冷量 kW AT	250℃	2.5	3.5	5.5	7.5	10	15	25	38	60	80
	0℃	2.5	3.5	5.5	7.5	10	15	25	38	60	80
	-40℃	2	2.8	5	6	8	12	20	31	48	64
	-60℃	1.1	1.9	2.8	3.2	4.2	6	10	16	24	32
	-80℃	0.35	0.5	0.8	1.2	1.6	2.1	3.5	6	11	15
	-85℃	0.2	0.3	0.5	0.7	0.85	1.3	1.9	3.5	6	8
流量壓力 max L/min bar		20	35	50	50	110	110	150	200	400	400
流量壓力 max L/min bar		2	2	2	2	2.5	2.5	2.5	2.5	2.5	2.5
循環泵		冠亞磁力驅動泵							德國品牌磁力驅動泵
壓縮機		法國泰康		意大利都凌半封閉活塞壓縮機
膨脹閥		丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發器		丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板		7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄
安全防護		具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環系統		整個系統為全密閉系統，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。
制冷劑		R-404A/R23/R14混合制冷劑
接口尺寸		G3/4	G3/4	G3/4	G1	G1	DN32	DN32	DN40	DN50	DN50
水冷型 W 溫度 20度 1.5~4bar		1100 L/H	1900 L/H	2400 L/H	3200 L/H	4000 L/H	8m3/H	12m3/H	20m3/H	30m3/H	40m3/H
外形尺寸 cm		4585 130	4585 130	5595 170	5595 170	70100 175	100150 185	205145 205	205145 205	245145 225	300160 225
重量kg		260	295	365	570	680	950	1400	1750	2400	3150
電源 380V50HZ		8kW	11kW	16kW	21kW	27kW	38kW	54kW	79kW	120kW	170kW

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